フォトレジスト g線、i線フォトレジストのメカニズムと化学構造をわかりやすく説明
g線・i線フォトレジストの反応メカニズムと化学構造を分かりやすく解説。ノボラック樹脂とジアゾナフトキノン(DNQ)による溶解抑制機構やウルフ転移の仕組み、クレゾール異性体比率や石垣モデルに基づく樹脂設計まで詳細に網羅しています。
フォトレジスト
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マテリアルズインフォマティクス
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