プロセス化学 プロセス化学におけるプロセスパラメータ｜製造条件の許容範囲の設定方法
工場で製品を製造するにあたり、収率や品質に影響するパラメータは決められた範囲内で制御します。このパラメータをプロセスパラメータと呼びます。この記事ではプロセスパラメータを設定するための考え方を説明します。また、各工程のプロセスパラメータの例...
研究
プロセス化学 
プロセス化学 プロセス化学における溶媒の選び方｜工場で使用するため、安全性と経済性が重要
プロセス化学（工業化研究）における溶媒の選び方は、実験室と違いがあります。工場では安全性と経済性に優れたプロセスで製品を製造するため、溶媒には様々な条件が求められます。この記事では、工場でよく使用される溶媒や、溶剤関係の豆知識、医薬品向けの...
フォトレジスト EUVフォトレジスト｜4種類の材料の化学構造と、メーカーのシェアを紹介
EUV露光によるリソグラフィーは最先端の半導体微細加工技術で、今後の半導体性能の向上に欠かせない技術です。このEUVリソグラフィーに必須の材料が、EUVフォトレジストです。最先端のEUV技術には、その他の光源にはない特徴があります。その特徴...
フォトレジスト メタルレジストとは？ 原理・メカニズムや、メタルレジストの具体例を紹介
フォトレジストは、マトリックス組成物に応じて有機系と無機系に分類できます。従来は主に有機系フォトレジストが使用されてきましたが、有機系フォトレジストには、EUV光源に対する吸収効率が低い、エッチングに対する耐性が低い、機械的強度が低い、LE...
プロセス化学 ラボから工場へのスケールアップ｜プロセス化学（工業化研究）の進め方と注意点
ねこお客さんに提供したサンプルが採用されたよ！やったね！次は100kg提供してほしいみたいだよけむさんそれはすごい！前回提供したサンプルが100gだったから1000倍だねねこ1000倍かー。1000回合成するの？けむさんさすがにそれはできな...
プロセス化学 実験室と工場での化学合成の違い｜製造設備と原料の違いについて説明
実験室ではガラス器具を使用して化学合成しますが、工場ではステンレスなど金属製の製造設備を使用して化学合成します。また、実験室では試薬原料を使用し、工場では工業用原料を使用します。この記事では、実験室での化学合成と工場での化学合成の違いを説明...
フォトレジスト 分子レジストとは？ 原理・メカニズムと分子レジストの具体例を紹介
半導体の微細化に伴い、フォトレジスト材料への要求水準が高くなっています。一般的なフォトレジストはマトリックスとして高分子化合物を使用していますが、フォトレジストの性能を改善するために低分子化合物をマトリックスとする分子レジスト（分子ガラスレ...
フォトレジスト ネガ型フォトレジストの種類と開発の歴史をわかりやすく説明
フォトレジストにはポジ型フォトレジストとネガ型フォトレジストの2種類があります。両タイプのレジストは用途・使用箇所により使い分けられます。この記事では、ネガ型フォトレジストとは何か、ネガ型フォトレジストリソグラフィーの仕組み、ネガ型フォトレ...
フォトレジスト 化学増幅型フォトレジスト｜KrF、ArFレジストのメカニズムと化学構造をわかりやすく説明
化学増幅型レジストは、1個の光量子の感光反応で生成した水素イオンが連鎖的に複数の反応を起こして感度を大幅に向上させるレジストです。化学増幅型レジストの代表例として、KrFレジストとArFレジストの化学構造や光照射による反応についてわかりやす...
フォトレジスト g線、i線フォトレジストのメカニズムと化学構造をわかりやすく説明
g線（436 nm）、i線（365nm）のフォトレジストは、ノボラック樹脂、感光材、添加剤、溶媒の混合物です。これら構成成分について化学的に説明します。g線、i線フォトレジストとは？フォトレジストは半導体製造のリソグラフィーにおいてパターン...